鈣鈦礦蒸鍍設(shè)備
蒸鍍生產(chǎn)線
產(chǎn)品特點(diǎn)
真空過渡分為1000Pa、1Pa、10-4Pa三級，異于10Pa、10-4Pa兩級模式，最大優(yōu)化羅茨泵在1000Pa~1Pa的抽氣效率，降低設(shè)備低真空段的泵組配置，減少設(shè)備能耗節(jié)約成本。
采用低溫泵在鍍膜前進(jìn)行樣片運(yùn)送時(shí)水汽的收集，抽氣效率高，對設(shè)備場地濕度要求降低，減少生產(chǎn)建設(shè)投資。
線性源采用一體化加熱及模塊化坩堝拼接設(shè)計(jì)，坩堝個(gè)體尺寸小具有極小的熱變形，坩堝位置可調(diào)節(jié)具有鍍膜均勻性調(diào)節(jié)的作用。
技術(shù)參數(shù) | |
|---|---|
| 設(shè)備型號(hào) | ZDX-300（600、1200） |
| 極限真空 | 8×10-5Pa |
| 腔室功能分類 | 進(jìn)、出樣室（1000Pa） |
| 低真空過渡室（1Pa） | |
| 高真空過渡室（5×10-4Pa） | |
| 蒸鍍室（5×10-4Pa） | |
| 蒸發(fā)源類型 | 線性源：室溫~700℃，水冷 |
| 蒸發(fā)距離 | 120~300mm |
技術(shù)參數(shù) | |
|---|---|
| 樣品幅寬 | 300、600、1200mm |
| 常用蒸發(fā)材料 | C60、BCP、LiF、PbI2、CsBr、Cu等 |
| 鍍膜節(jié)拍 | ≥60s |
| 連續(xù)運(yùn)行時(shí)間 | ≥300h |
| ≥50h（C60、1A/s） | |
| 膜厚均勻性 | ≤±5% |
| 鍍膜速率穩(wěn)定性 | ≤±0.1A/s |
| 鍍膜時(shí)樣品溫度 | ≤60℃ |
技術(shù)優(yōu)勢 |
|---|
| 針對電子傳輸層（C60）蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 |
| 針對C60蒸發(fā)材料吸附氧、水汽對蒸鍍穩(wěn)定性的影響，在鍍膜室進(jìn)行預(yù)蒸發(fā)處理、深冷收集等處理，提高C60蒸鍍溫度穩(wěn)定性，延長連續(xù)鍍膜時(shí)間。 |
| 線性源根據(jù)C60特性，蒸發(fā)口采用不遮擋方式，蒸發(fā)速率更快、減少冷凝載體面積、穩(wěn)定性更好。 |
技術(shù)優(yōu)勢 |
|---|
| 針對鈣鈦礦層共蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 |
| 兼容2-3源共蒸發(fā) |
| 共蒸發(fā)源具有2種工作模式，同步混合鍍膜，分層交替鍍膜，針對不同材料的物理特性具有更好的兼容性和共蒸發(fā)效果。 |
| 線性源mask具有多孔、狹縫、寬縫等多樣化結(jié)構(gòu)方式，針對不同材料的物理特性能夠分別解決：樣品降溫、減少mask冷凝、蒸發(fā)效率調(diào)控、發(fā)散角調(diào)控等問題。 |
